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行業應用案例

5min看懂高效抗敏、止癢、修復新原料——MHA Micro

作者:    瀏覽:303    發布時間:2017-6-15 13:39:49


       受外界環境變化、使用不良化妝品或不良的清潔習慣等影響,肌膚屏障會出現不同程度受損,也變得越來越敏感和脆弱,為了更好地呵護您的肌膚,我司重點推出明星舒緩修復新原料。

       INCI:羧甲基脫乙酰殼多糖

       建議添加量:0.05%-0.25%

       特性一:快速止癢



       特性二:高效抗炎

       常見抗炎原料細胞水平效果比較(化妝品配方中添加量為細胞水平的10倍)




       特性三:快速修復


實驗方法詳見醫工院報告;

       應用:

       常規產品:避免接觸性皮炎患者使用后出現皮膚紅腫瘙癢現象。

       (用量:0.05%-0.1%)


       舒敏產品:緩解用戶皮膚過敏癥狀,例:緊急修護精華。

       (用量:0.25%)


       醫美產品:脈沖光、射頻、點陣、果酸等醫學美容術后的抗敏感及抗炎癥產生,快速修復基底熱損傷,避免造成術后敏感。

       (用量:0.25%)


       敏感性肌膚護理產品:有效降低敏感肌客戶皮膚炎癥發生概率。

       (用量0.1%-0.2%)


       功能性產品(防曬,美白):降低如防曬劑、熊果苷等功能性原料引起過敏概率。

       (用量0.05%-0.1%)


       止癢產品:止癢噴霧。

       (用量:0.15%-0.2%)


       抗衰老產品:高端修復精華,吸收皮膚自由基,防止氧化。

       (用量:0.1%-0.2%)


       祛痤瘡修復產品:促進祛痘后疤痕修復,避免留下痘印。

       (用量0.1%-0.2%)


       卸妝產品:對于經常涂抹粉底,BB霜肌膚能起到吸附排泄皮下深層重金屬作用。

       (用量0.1%-0.2%)


      使用注意事項:80度下添加,與卡波復配性較好,詳情聯系我司。
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